產品介紹
NEMST-Waterfall2008III 系列
射頻 瀑布式常壓電漿清洗機
- DBD電極設計：電漿密度高。
- 屬直接式電漿、單電極氣冷設計。
- 反應氣體使用氬氣（Ar）。
- 電極幅寬可依據客戶需求訂製。
- 電極擴充性高，處理速度快。
- 樣品離電極的距離約為1~ 4 mm。
- 可適用各種片材、薄膜材料。
- 可單機或線上模組化。
- 產品單面處理。 電極距離產品之距離可拉高至4~5 mm。
- 反應氣體使用氬氣（Ar），流量小。
- 電極有效幅寬100 mm~1000 mm(客製化，寬度可以再加大)
- 一般可處理的速度為0.5至5 m/min。(依製程需求，可進一步討論)
- 可適用各種片材、薄膜材料
- 電漿穩定性、均勻度高。
- (1) 各式印刷電路板上之表面清潔與改質(表面活化與粗糙度之改善)，適用於鍍金、鍍銅或出貨前之處理。
- (2) 素玻璃、ITO玻璃基板表面清潔及改質(如改善親水性)。
- (3) TP各項製程LCD或Sensor之清潔。
- (4) CF製程中素玻璃、ITO玻璃、上BM及R、G、B光阻前各項panel清潔應用，可取代傳統UV-Ozone清洗機，以節省大量運作成本，並提高清洗效率。
- (5) 各式電子或非電子元件/材料之表面清潔與改質，可適用於多種金屬或非金屬材料的處理(如PI、PET、PE、塑膠等)。
- (6) 成長薄膜之應用。